优美科思紫外线灯13KW

低压汞灯（low pressure mercury lamp）指汞蒸气压力为1.3～13Pa（0.01～0.1mmHg），主要发射波长在紫外区的253.7nm（0.01mmHg），相当能量为471.0kJ/mol（112.5kcal/mol），占灯的总能量的70%的汞蒸气弧光灯。25℃时，该灯的主射线为253.7和184.9nm。低压汞灯光强低，光固化速度慢，但发热量小，不需冷却就可使用，在印刷制版上用得较多。主要应用作杀菌灯、荧光分析、光谱仪波长基准。这类灯又称灭菌灯，主要分类为：冷阴极辉光放电灯和热阴极弧光放电灯。低压汞灯点燃时汞蒸气压小于一个大气压，此时汞原子主要辐射波长为253.7nm的紫外线。常用的“日光灯”灯管内壁涂以卤磷酸钙荧光粉，再将紫外线转变为可见光。节能型荧光灯内壁涂有稀土荧光粉，发光效率更高。i线步进式光刻机NSR-SF140,用于半导体器件制造。使用ORC高压汞灯，功率7.5KW，型号：NLi-7500AL2。优美科思紫外线灯13KW

e.高精度单面：针对各大专院校、企业及科研单位，对光刻机使用特性研发的一种高精度光刻机,中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。高精度对准工作台、双目分离视场CCD显微显示系统、曝光头、气动系统、真空管路系统、直联式无油真空泵、防震工作台和附件箱等组成。解决非圆形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分离不开所引起的版片无法对准的问题。2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。AHD-750H-O-N专业紫外线灯，为半导体工业提供持久动力。

 紫外线固化杀菌 (1)杀菌原理： 通过紫外线杀菌就是通过紫外线的照射，破坏及改变微生物的 DNA(脱氧核糖核酸)结构，使细菌当即死亡或不能繁殖后代，达到杀菌的目的。紫外线杀菌的有效波长范围可分为四个不同的波段：UVA(400～315nm)、UVB(315～280nm)、UVC(280～200nm)和真空紫外线(200～100nm)，真正具有杀菌作用的是UVC紫外线，因为C波段紫外线很易被生物体的DNA吸收，尤以253.7nm左右的紫外线 。[1] uv固化原理 紫外线固化原理： 紫外线光(UV)固化是利用光引发剂(光敏剂)的感光性、在紫外线光照射下光引发形成激发生态分子，分解成自由基或是离子，使不饱和有机物进行聚合、接技、交联等化学反应达到固化的目的。 紫外灯的红外辐射的处理方法： 紫外线高压汞灯将60%的总功率转变为红外辐射，灯管表面温度可升到700-800℃。

高压汞灯光学扩散基于非成像光学的光学扩展量概念,结合冷反光碗方程,平面镜，反射镜等光学镜组，将光源发光弧长内部的强度分布和角度分 布作为权重函数,导出了出射光斑的光能量分布,分析了带反光碗的超高压汞灯出射光斑的光学扩展量.根据理论分析模型,实际模拟了输出光斑的光能分布与光学 扩展量的关系曲线.为了验证分析方法的正确性,提出采用积分球测量光学扩展量和光能分布的方法,实验测量并验证了模拟得到的曲线,从而为照明系统的设计提 供了有价值的参考.NSR-2205iL1 将提供高生产率，通过使用高精度晶圆测量、晶圆平台调平和宽 DOF来优化半导体制造工艺的良率。

曝光机设备上配置椭圆镜，镜面有做涂层处理。椭圆镜作用是协助光源发出的紫外线波长(365nm，405nm，436nm)无法穿过椭圆镜的镜面，紫外线光反射回来，500nm以上的红外线透过椭圆镜的镜面，释放掉热量。灯箱内常时通入氮气，吹向冷却紫外线灯及椭圆镜，降低灯箱内氛围温度，通过常时排气，带着多余热量，是高压汞灯稳定工作。佳能面向FPD工厂的曝光机，设备型号：MPAsp-E813，MPAsp-H803，MPAsp-H763，内部标配椭圆镜，型号：Y60-5340-000。超高压汞灯，紫外线灯中强者，为你的工业生产保驾护航。USHIO紫外线灯UNL-12000B

采用较好的技术和材料，我们的紫外线灯具有长寿命、低能耗、高紫外线输出等优点。优美科思紫外线灯13KW

用途:レンズの接着、光学レンズの接着、光ファイバーの接着、電子部品の仮組立・封止など。塗装・コーティングに。乗用車塗装補修、ルアー・釣竿の表面塗装、木工芸品の塗装、店舗やホテルの塗装短時間施工、プリント基板の保護コート、装飾織物の表面コート(帯地の金箔)、FRPの補修、屋外構築物の部分補修など。印刷・マーキングに。電子部品のマーキング、銘版印刷、シール・ラベル印刷、プラスチックフィルム・カードの印刷の部分補修など。优美科思紫外线灯13KW